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1.前道工艺(晶圆制造)典型车间:扩散炉区:ISO4级,控制颗粒及热均匀性;CMP(化学机械抛光)区:ISO5级,防划伤微粒。设施配置:工艺冷却水(PCW)系统;废气洗涤塔(处理酸性气体)。2.后道工艺(封装测试